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Elaboration de Films de (La, Sr)2nio4 Et (Ba, Sr)Tio3 Par Ablation Laser

von Goux-L

enthalten in Omn.Pres.Franc.-Reihe

Elaboration de Films de (La, Sr)2nio4 Et (Ba, Sr)Tio3 Par Ablation Laser von Goux-L Sie sparen 20% des UVP sparen 20%
Über Elaboration de Films de (La, Sr)2nio4 Et (Ba, Sr)Tio3 Par Ablation Laser

Cette étude est une tentative d¿épitaxie par ablation laser de l¿oxyde de forte permittivité Ba0.6Sr0.4TiO3 (BST) sur silicium en vue de l¿intégration de condensateurs de forte capacité. Nous montrons d¿abord l¿effet bénéfique d¿une croissance de BST orientée selon les plans (h00) sur substrat monocristallin SrTiO3(100) sur la valeur de la permittivité du film. Comme par ailleurs nous confirmons que la croissance du BST sur substrat Pt(111)/TiOx/SiO2/Si (0

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  • Sprache:
  • Französisch
  • ISBN:
  • 9783838149196
  • Einband:
  • Taschenbuch
  • Seitenzahl:
  • 224
  • Veröffentlicht:
  • 28. Februar 2018
  • Abmessungen:
  • 229x152x13 mm.
  • Gewicht:
  • 336 g.
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Über Goux-L

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Beschreibung von Elaboration de Films de (La, Sr)2nio4 Et (Ba, Sr)Tio3 Par Ablation Laser

Cette étude est une tentative d¿épitaxie par ablation laser de l¿oxyde de forte permittivité Ba0.6Sr0.4TiO3 (BST) sur silicium en vue de l¿intégration de condensateurs de forte capacité. Nous montrons d¿abord l¿effet bénéfique d¿une croissance de BST orientée selon les plans (h00) sur substrat monocristallin SrTiO3(100) sur la valeur de la permittivité du film. Comme par ailleurs nous confirmons que la croissance du BST sur substrat Pt(111)/TiOx/SiO2/Si (0

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