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Low Pressure Plasmas and Microstructuring Technology

Über Low Pressure Plasmas and Microstructuring Technology

Over the last forty years, plasma supported processes have attracted ever - creasing interest, and now, all modern semiconductor devices undergo at least one plasma-involved processing step, starting from surface cleaning via coating to etching.

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  • Sprache:
  • Englisch
  • ISBN:
  • 9783642099397
  • Einband:
  • Taschenbuch
  • Seitenzahl:
  • 732
  • Veröffentlicht:
  • 19. Oktober 2010
  • Ausgabe:
  • 12009
  • Abmessungen:
  • 234x156x38 mm.
  • Gewicht:
  • 1139 g.
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Beschreibung von Low Pressure Plasmas and Microstructuring Technology

Over the last forty years, plasma supported processes have attracted ever - creasing interest, and now, all modern semiconductor devices undergo at least one plasma-involved processing step, starting from surface cleaning via coating to etching.

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