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Novel Reactor Design and Method for Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition of Micro and Nano SiO2-x Films in Photovoltaic Applications

von Esmail Issa

enthalten in Werkstofftechnik aktuell : IWT ; Bd. 26-Reihe

Novel Reactor Design and Method for Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition of Micro and Nano SiO2-x Films in Photovoltaic Applications von Esmail Issa
  • Sprache:
  • Englisch
  • ISBN:
  • 9783863602635
  • Einband:
  • Taschenbuch
  • Seitenzahl:
  • 242
  • Veröffentlicht:
  • 1. Januar 2022
  • Abmessungen:
  • 148x14x210 mm.
  • Gewicht:
  • 319 g.
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