Name: Novel Reactor Design and Method for Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition of Micro and Nano SiO2-x Films in Photovoltaic Applications
Price: 25.00 EUR
Availability: InStock
Author: Esmail Issa
ISBN: 9783863602635

Novel Reactor Design and Method for Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition of Micro and Nano SiO2-x Films in Photovoltaic Applications von Esmail Issa

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Taschenbuch
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25,00 €

Sprache:
Englisch

ISBN:
9783863602635

Verlag:
Universitätsverlag Ilmenau

Einband:
Taschenbuch

Seitenzahl:
242

Veröffentlicht:
1. Januar 2022

Abmessungen:
148x14x210 mm.

Gewicht:
319 g.

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