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Procesos microelectrónicos para la fabricación de VLSI

Procesos microelectrónicos para la fabricación de VLSIvon Debasis Mukherjee Sie sparen 19% des UVP sparen 19%
Über Procesos microelectrónicos para la fabricación de VLSI

"Procesos microelectrónicos para la fabricación de VLSI" es una guía completa y autorizada que profundiza en los principios fundamentales y las técnicas avanzadas utilizadas en la fabricación de circuitos integrados a muy gran escala (VLSI). El libro, que abarca un amplio abanico de temas, comienza con una introducción en profundidad a la tecnología de semiconductores de silicio, que incluye una visión general de los materiales semiconductores, la estructura cristalina del silicio, los semiconductores intrínsecos y extrínsecos y las complejidades del dopaje y la concentración de portadores. El libro examina ampliamente los métodos de deposición epitaxial, como la deposición química en fase vapor (CVD), la epitaxia de haces moleculares (MBE) y la epitaxia selectiva. La implantación y difusión de iones, procesos fundamentales para la fabricación de dispositivos semiconductores, también se analizan meticulosamente, con información sobre los procesos de implantación de iones.

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  • Sprache:
  • Spanisch
  • ISBN:
  • 9786206369660
  • Einband:
  • Taschenbuch
  • Seitenzahl:
  • 228
  • Veröffentlicht:
  • 22. August 2023
  • Abmessungen:
  • 150x14x220 mm.
  • Gewicht:
  • 358 g.
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Beschreibung von Procesos microelectrónicos para la fabricación de VLSI

"Procesos microelectrónicos para la fabricación de VLSI" es una guía completa y autorizada que profundiza en los principios fundamentales y las técnicas avanzadas utilizadas en la fabricación de circuitos integrados a muy gran escala (VLSI). El libro, que abarca un amplio abanico de temas, comienza con una introducción en profundidad a la tecnología de semiconductores de silicio, que incluye una visión general de los materiales semiconductores, la estructura cristalina del silicio, los semiconductores intrínsecos y extrínsecos y las complejidades del dopaje y la concentración de portadores. El libro examina ampliamente los métodos de deposición epitaxial, como la deposición química en fase vapor (CVD), la epitaxia de haces moleculares (MBE) y la epitaxia selectiva. La implantación y difusión de iones, procesos fundamentales para la fabricación de dispositivos semiconductores, también se analizan meticulosamente, con información sobre los procesos de implantación de iones.

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