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  5. Growth of High Permittivity Dielectrics by High Pressure Sputtering from Metallic Targets

Growth of High Permittivity Dielectrics by High Pressure Sputtering from Metallic Targets

von Maria Angela Pampillon Arce

enthalten in Springer Theses-Reihe

Growth of High Permittivity Dielectrics by High Pressure Sputtering from Metallic Targets von Maria Angela Pampillon Arce Sie sparen 10% des UVP sparen 10%
Über Growth of High Permittivity Dielectrics by High Pressure Sputtering from Metallic Targets

This thesis describes the fabrication of metal-insulator-semiconductor (MIS) structures using very high permittivity dielectrics (based on rare earths) grown by high-pressure sputtering from metallic targets.

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  • Sprache:
  • Englisch
  • ISBN:
  • 9783319882840
  • Einband:
  • Taschenbuch
  • Seitenzahl:
  • 164
  • Veröffentlicht:
  • 18. Mai 2018
  • Ausgabe:
  • 12017
  • Abmessungen:
  • 155x235x0 mm.
  • Gewicht:
  • 2934 g.
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Über Maria Angela Pampillon Arce

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Beschreibung von Growth of High Permittivity Dielectrics by High Pressure Sputtering from Metallic Targets

This thesis describes the fabrication of metal-insulator-semiconductor (MIS) structures using very high permittivity dielectrics (based on rare earths) grown by high-pressure sputtering from metallic targets.

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